芬蘭KxS 化學(xué)監(jiān)測儀赫爾納供應(yīng)

芬蘭KxS 化學(xué)監(jiān)測儀赫爾納供應(yīng)，由赫爾納德國總部直接采購，近30年進口工業(yè)品經(jīng)驗，原裝產(chǎn)品，支持選型，為您提供一對一好的解決方案：貨期穩(wěn)定，快速報價，價格優(yōu)，設(shè)有8大辦事處提供相關(guān)售后服務(wù)。

公司簡介：

KxS Technologies 隨時幫助您滿足過程監(jiān)控需求，在每個階段提供支持。從專家應(yīng)用咨詢和選擇正確的解決方案到順利啟動和生命周期支持，我們都能滿足您的需求。

芬蘭KxS 化學(xué)監(jiān)測儀產(chǎn)品型號：

DCM-10

芬蘭KxS 化學(xué)監(jiān)測儀產(chǎn)品介紹：

KxS 原位折射率：半導(dǎo)體工廠化學(xué)監(jiān)測的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。在平衡整個晶圓廠分銷鏈中的半導(dǎo)體化學(xué)濃度測量的成本、速度和精度時，原位折射率已成為行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。借助KxS Technologies 的好解決方案和專業(yè)知識，體驗化學(xué)監(jiān)測過程中的精度和效率。

芬蘭KxS 化學(xué)監(jiān)測儀監(jiān)測范圍：

KxS 半導(dǎo)體 DCM-10 晶圓廠化學(xué)監(jiān)測儀經(jīng)過專業(yè)設(shè)計，可：

? 定義傳入的清潔化學(xué)品濃度和原始 CMP 漿料密度。

? 在用于銅、鎢和層間電介質(zhì)平坦化應(yīng)用的膠體二氧化硅型 CMP 漿料中實現(xiàn)并確保H2O2 濃度和去離子水稀釋。

? 將濃度測量值與緩沖氧化物蝕刻 (BOE) 等工藝中的晶圓蝕刻速率 (ER) 相關(guān)聯(lián)。

? 優(yōu)化濕法帶材旋壓工具中蝕刻后殘留物去除劑（例如 EKC265™）的鍍液壽命。

芬蘭KxS 化學(xué)監(jiān)測儀監(jiān)測種類：

我們的技術(shù)能夠監(jiān)測各種關(guān)鍵半導(dǎo)體化學(xué)品，包括但不限于：過氧化氫 (H2O2)、氫氧化銨（NH3水）、稀氫氟酸（HF）、磷酸 (H3PO4)、鹽酸（HCl）、氫氧化鈉 (NaOH)、硫酸（H2SO4）、N-甲基吡咯烷酮（NMP）、四甲基氫氧化銨 (TMAH)、異丙醇 (IPA)、氫氧化鉀 (KOH)、硝酸（HNO3）、聚乙二醇 (PEG)、檸檬酸（C6H8O7）、乙酸 (CH3COOH)

芬蘭KxS 化學(xué)監(jiān)測儀應(yīng)用領(lǐng)域：

我們的半導(dǎo)體工廠化學(xué)監(jiān)測儀非常適合各種應(yīng)用，包括：

? SC-1、SC-2 的化學(xué)混合校驗

? 使用 NH3 水混合物進行硬掩模蝕刻

? 使用 50% KOH 進行硅濕法蝕刻

? 使用 H2SO4:HNO3:H3PO4 混合物進行鈦蝕刻

? 使用 HF:HNO3 混合物進行背面多晶硅蝕刻

? 使用各種混合物進行 CMP 后清潔